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簡要描述：【無錫冠亞】中試加熱制冷設(shè)備 工藝過程密閉循環(huán)恒溫器，應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。
產(chǎn)品型號(hào)：SUNDI-275廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-01-16訪 問 量：822| 品牌 | 冠亞制冷 | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-20萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合 |
無錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于：
高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、
雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制
型號(hào) | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質(zhì)溫度范圍 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認(rèn)PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度（外接溫度傳感器）三點(diǎn)溫度 | ||||||||||||
導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應(yīng)物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機(jī) | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機(jī) | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護(hù) | 具有自我診斷功能；冷凍機(jī)過載保護(hù)；高壓壓力開關(guān)，過載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個(gè)系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時(shí)不會(huì)有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運(yùn)行中不會(huì)因?yàn)楦邷厥箟毫ι仙蜏刈詣?dòng)補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風(fēng)）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風(fēng)) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水）cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規(guī)重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風(fēng)冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制系統(tǒng)是一種應(yīng)用于化學(xué)、生物工程、制藥、新材料研發(fā)等領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于準(zhǔn)確控制雙層反應(yīng)釜內(nèi)物料的溫度，確保反應(yīng)在設(shè)定的溫度范圍內(nèi)穩(wěn)定進(jìn)行。
雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制系統(tǒng)通常由內(nèi)外雙層結(jié)構(gòu)的反應(yīng)釜、加熱/冷卻單元、溫度傳感器、智能控制器等組成。
1. 雙層結(jié)構(gòu)：雙層反應(yīng)釜的內(nèi)層用來裝載反應(yīng)物料，外層則是環(huán)繞內(nèi)層的夾套，通過夾套中的加熱或冷卻介質(zhì)來控制內(nèi)層物料的溫度。
2. 動(dòng)態(tài)恒溫控制：冠亞制冷動(dòng)態(tài)恒溫控制系統(tǒng)可以根據(jù)設(shè)定的溫度目標(biāo)和物料吸熱或放熱的情況，自動(dòng)調(diào)節(jié)加熱或冷卻介質(zhì)的流量和溫度，確保反應(yīng)釜內(nèi)溫度始終保持在適合范圍內(nèi)。
3. 加熱與冷卻單元：加熱單元可以采用電加熱、蒸汽加熱等方式，冷卻單元?jiǎng)t可通過冷卻水循環(huán)、制冷劑循環(huán)等途徑實(shí)現(xiàn)。系統(tǒng)可根據(jù)需要迅速切換加熱和冷卻模式，適應(yīng)反應(yīng)過程中溫度變化的需求。
4. 溫度傳感器與控制器：反應(yīng)釜內(nèi)部通常設(shè)有多個(gè)溫度傳感器，實(shí)時(shí)監(jiān)測釜內(nèi)不同位置的溫度。控制器基于這些溫度信號(hào)，運(yùn)用PID或其他控制算法，準(zhǔn)確調(diào)控加熱和冷卻單元的工作狀態(tài)，實(shí)現(xiàn)快速響應(yīng)和準(zhǔn)確控溫。
5. 應(yīng)用實(shí)例：冠亞制冷雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制系統(tǒng)在生物酶催化反應(yīng)、精細(xì)化學(xué)品合成、藥物結(jié)晶、新材料合成等各種對(duì)溫度控制要求苛刻的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)環(huán)節(jié)中都有廣泛的應(yīng)用。例如，在聚合反應(yīng)中，恒定的溫度可以確保反應(yīng)的穩(wěn)定性和產(chǎn)物的均一性；在藥物結(jié)晶過程中，準(zhǔn)確的溫度控制有助于提高晶體純度和收率。
中試加熱制冷設(shè)備 工藝過程密閉循環(huán)恒溫器
中試加熱制冷設(shè)備 工藝過程密閉循環(huán)恒溫器
